证券之星音讯，依据企查查多个方面数据显现晶盛机电(300316)新取得一项实用新型专利授权，专利名为“晶圆抛光机”，专利申请号为CN2.X，授权日为2024年2月27日。

  专利摘要：本实用新型触及一种晶圆抛光机，该晶圆抛光机前言：机架；驱动设备，衔接于机架，具有可升降的输出轴；上盘，具有上盘本体和贯穿上盘本体的供液通道；下盘，坐落上盘下方；中心轴，衔接于输出轴，开设有进液流道；及第一滚动件，滚动衔接于中心轴，开设有出液流道；进液流道、出液流道、供液通道顺次连通。由于进液流道、出液流道均坐落晶圆抛光机内，所以抛光液在活动过程中一直不会露出于外界，这能防备外界杂质经过抛光液进入抛光区域而导致晶圆的抛光质量下降。由于没有露出于外界，所以抛光液不容易蒸发，晶圆抛光机上由蒸发的抛光液构成的结晶便会明显削减，这可以减轻晶圆抛光机的清洁担负。

  今年以来晶盛机电新取得专利授权34个，较去年同期增加了126.67%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研制方面投入了6亿元，同比增118.68%。

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